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一种高硬度AlCrN纳米复合涂层及其制备工艺

一种高硬度AlCrN纳米复合涂层及其制备工艺

  • 专利类型:发明专利
  • 有效期:不限
  • 发布日期:2020-03-30
  • 技术成熟度:详情咨询
交易价格: ¥面议
  • 法律状态核实
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  • 交易成功

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  • 技术(专利)类型 发明专利
  • 申请号/专利号 CN201710155500.6 
  • 技术(专利)名称 一种高硬度AlCrN纳米复合涂层及其制备工艺 
  • 项目单位 天津职业技术师范大学
  • 发明人 范其香 
  • 行业类别 化学、冶金
  • 技术成熟度 详情咨询
  • 交易价格 ¥面议
  • 联系人 刘宇者
  • 发布时间 2020-03-30  
  • 01

    项目简介

    本发明涉及一种纳米复合涂层及其制备技术,具体地说是一种具有高Al含量的AlCrN纳米复合涂层的制备工艺。采用电弧离子镀技术在金属或硬质合金基体上制备AlCrN纳米复合涂层。选用纯金属Al和Cr作为靶材,通过控制Al靶和Cr靶的电流,调控涂层中Al和Cr元素的含量。纯Cr靶和Al靶各4个,相间地均匀分布在炉体内壁上。镀膜前先通入Ar气,采用‑600~1000 V偏压,对基片进行辉光清洗10~20 min,随后开启Cr靶,对基体进行轰击清洗,并逐渐降低偏压至‑30~100V,沉积金属Cr层。最后再通入N,开启Al靶,沉积AlCrN涂层。本发明涉及的AlCrN纳米复合涂层制备工艺简单,容易工业化生产;制备出的AlCrN涂层具有很高的硬度和强度,良好的耐高温氧化性能和耐蚀性能。
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  • 02

    说明书

    1.一种具有高硬度、高抗氧化性能的AlCrN涂层,其特征在于AlCrN涂层与基体之间有
    一层10~300 nm厚的纯Cr金属层和10~300 nm的CrN层,以提高涂层与基体之间的结合力;
    AlCrN涂层总厚度为2~10 μm。
    2.根据权利要求1所述的涂层,其特征在于:AlCrN层中Al含量为25~40 at.%, Cr含量
    为15~25 at.%, N含量为45~50 at.%;其中Al/(Al+Cr)= 0.5~0.75。
    3.根据权利要求1所述的AlCrN涂层,其特征在于:所述AlCrN涂层为面心立方结构的
    (Al,Cr)N相,衍射峰位于fcc-CrN和fcc-AlN衍射峰的中间,但离fcc-AlN衍射峰更近一些。
    4.根据权利要求1所述的AlCrN涂层的制备工艺,其特征在于:采用国产AIP-650型电弧
    离子镀膜仪在高速钢和硬质合金上沉积具有高硬度、高抗氧化性能的AlCrN涂层,硬度高达
    30~40 GPa。
    5.按照权利要求2所述的AlCrN涂层的制备工艺,其特征在于:基体材料经过除油和干
    燥预处理后,放在可同时自转和公转的转架上,公转速度为5~40 r/min,靶基距约为150
    mm。
    6.按照权利要求2所述的AlCrN涂层的制备工艺,其特征在于:采用机械泵和分子泵抽
    真空;当真空室气压优于1×10-3 Pa时,打开加热系统将炉腔加热至200~500 ºC;随后,开启
    Ar气流量阀,气流量为50~200 sccm,调整节流阀使真空室压强为0.1~2 Pa,基片加-600~
    1000 V负偏压,辉光清洗10~20 min;开启4个纯Cr靶,靶材电流均为50~150 A,对基体进行
    轰击清洗5~30 min;降低偏压至-10~100 V,调节真空压强,沉积纯Cr金属层约5~20 min;通
    入N2沉积5~20 min,获得CrN过渡层。
    7.按照权利要求2所述的AlCrN涂层的制备工艺,其特征在于:沉积AlCrN涂层时,N2和Ar
    气流量分别为50~200 sccm,调整节流阀使真空室压强为0.3~2 Pa,控制N2/Ar比在0.5~3之
    间;同时开启4个纯Al靶和纯Cr靶,电流均为50~150 A,沉积AlCrN涂层,时间为30~120 min。
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专利技术附图

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