金属互连结构及其制作方法

本发明提供一种金属互连结构及其制作方法。该制作方法包括：首先在基底上制作金属互连结构，该金属互连结构包括金属线图案、导电插塞及其间填充的介质层；接着，光刻后，采用各项异性干法刻蚀自上而下地刻蚀所述金属互连结构，至少在自上而下为介质层的区域形成通孔或槽；最后采用各向同性去除法将金属线图案之下的介质层去除形成新的金属互连结构，该新的金属互连结构除了两端包埋在介质层中，其它部分浮置在槽或孔中。采用本发明的技术方案，可以满足一些对悬空金属互连结构的需求，例如，可以减轻与镜头不匹配情形，减小光串扰现象，还可以在悬空结构中填充需要的材质。