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包含偏转镜的折反射投射物镜以及投射曝光方法

包含偏转镜的折反射投射物镜以及投射曝光方法

  • 专利类型:发明专利
  • 有效期:不限
  • 发布日期:2020-03-27
  • 技术成熟度:未知
交易价格: ¥面议
  • 法律状态核实
  • 签署交易协议
  • 代办官方过户
  • 交易成功

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  • 技术(专利)类型 发明专利
  • 申请号/专利号 CN201080053872.4 
  • 技术(专利)名称 包含偏转镜的折反射投射物镜以及投射曝光方法 
  • 项目单位 卡尔蔡司SMT有限责任公司
  • 发明人 T.希克坦兹 T.格鲁纳  
  • 行业类别 物理
  • 技术成熟度 未知
  • 交易价格 ¥面议
  • 联系人 卡尔蔡司SMT有限责任公司
  • 发布时间 2017-01-18  
  • 01

    项目简介

    一种折反射投射物镜具有多个透镜以及至少一凹面镜CM,还有两个偏转镜FM1,FM2,从而将从物场到凹面镜的部分光束路径与从凹面镜到像场的部分光束路径分开。偏转镜相对于投射物镜的光轴OA绕着平行于第一方向x方向的倾斜轴倾斜。第一偏转镜设置成光学邻近于第一场平面,而第二偏转镜设置成光学邻近于第二场平面,第二场平面与第一场平面光学共轭。设置在所述场平面之间的光学成像系统,在第一方向具有接近于-1的成像比例。提供位移装置DISX,用于偏转镜FM1、FM2在第一位置和第二位置之间平行于第一方向的同步位移,第二位置相对于第一位置偏移了一位移距离。通过投射物镜的投射辐射束在偏转镜的第一位置于第一反射区反射,并且在偏转镜的第二位置于第二反射区反射,第二反射区相对于第一反射区平行第一方向横向偏移了此位移距离。偏转镜在第一反射区和第二反射区具有不同的反射特性局部分布。由此可主动操纵场效果例如场均匀性或主动操纵波前。
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