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具有自对准垂直LDD和背面漏极的LDMOS

具有自对准垂直LDD和背面漏极的LDMOS

  • 专利类型:发明专利
  • 有效期:不限
  • 发布日期:2020-03-27
  • 技术成熟度:未知
交易价格: ¥面议
  • 法律状态核实
  • 签署交易协议
  • 代办官方过户
  • 交易成功

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  • 技术(专利)类型 发明专利
  • 申请号/专利号 CN201080016769.2 
  • 技术(专利)名称 具有自对准垂直LDD和背面漏极的LDMOS 
  • 项目单位 飞兆半导体公司
  • 发明人 布鲁斯·D·马钱特 丹尼尔·M·金泽  
  • 行业类别 电学
  • 技术成熟度 未知
  • 交易价格 ¥面议
  • 联系人 飞兆半导体公司
  • 发布时间 2017-01-18  
  • 01

    项目简介

    一种场效应晶体管,包括:具有上表面和下表面的第一导电类型的半导体区,半导体区的下表面在衬底上延伸并且与衬底邻接。第二导电类型的阱区设置在半导体区内。该场效应晶体管还包括放置在阱区内的第一导电类型的源区以及在每个阱区上延伸并且与对应的一个源区重叠的栅电极。每个栅电极通过栅极电介质与下部的阱区绝缘。在每两个邻近阱区之间的半导体区中设置了第一半导体类型的至少一个LDD区,使得该至少一个LDD区与之间设置该该至少一个LDD区的两个邻近阱区相接触。下沉区设置在该至少一个LDD区正下方的半导体区中,使得该至少一个LDD区和下沉区在半导体区的上表面和下表面之间沿着垂直方向设置。
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