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一种高压直流发光二极管芯片结构及其制造方法

一种高压直流发光二极管芯片结构及其制造方法

  • 专利类型:发明专利
  • 有效期:不限
  • 发布日期:2020-03-27
  • 技术成熟度:未知
交易价格: ¥面议
  • 法律状态核实
  • 签署交易协议
  • 代办官方过户
  • 交易成功

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  • 技术(专利)类型 发明专利
  • 申请号/专利号 CN201010532685.6 
  • 技术(专利)名称 一种高压直流发光二极管芯片结构及其制造方法 
  • 项目单位 上海蓝光科技有限公司
  • 发明人 郝茂盛 张楠 潘尧波 齐胜利 朱广敏 李士涛  
  • 行业类别 电学
  • 技术成熟度 未知
  • 交易价格 ¥面议
  • 联系人 上海蓝光科技有限公司
  • 发布时间 2017-01-18  
  • 01

    项目简介

    本发明公开了一种高压直流发光二极管芯片的制造方法及其结构。在外延生长前先将生长衬底定义为多个单元区间,清洗生长衬底;利用外延横向生长技术进行外延生长,使每个单元区间上生长的外延层相互电隔离,每个单元区间的外延层之间形成沟道;在外延层表面涂敷一层有机薄膜作为阻挡层;在所述沟道内填充介质材料;进行CMP平坦化处理,CMP抛光至阻挡层;清洗表面,去除阻挡层,最终平坦化外延表面;最后制作P、N电极将多个芯片单元串联在一起,形成由多个芯片单元串联而成的器件。本发明可以以增加串联芯片个数的方式增加芯片的输入功率,从而减小了pn结在大电流工作状态下的热损伤,防止了当流过pn结的电流密度过大时光效下降。
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