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MIP系列多功能离子镀膜技术与设备

MIP系列多功能离子镀膜技术与设备

  • 专利类型：未知
  • 有效期：不限
  • 发布日期：2020-03-27
  • 技术成熟度：未知
交易价格： ￥面议
  • 法律状态核实
  • 签署交易协议
  • 代办官方过户
  • 交易成功

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  • 技术(专利)类型 未知
  • 申请号/专利号  
  • 技术(专利)名称 MIP系列多功能离子镀膜技术与设备 
  • 项目单位 BI360655579
  • 发明人 BI360655579 
  • 行业类别 未知
  • 技术成熟度 未知
  • 交易价格 ￥面议
  • 联系人 BI360655579
  • 发布时间 2017-01-17  

  • 01

    项目简介

    MIP系列多功能离子镀膜技术与设备是当代最新表面处理方法之一。采用低电压、大电流真空电弧技术和中频磁控溅射技术相结合的方法（物理气相沉积PVD技术），直接将阴极材料(被蒸镀材料)蒸发并离化,形成高度电离的等离子体束，这些高能粒子在工件偏压的作用下，沉积在工件表面上，生成各种金属薄膜（如铜、铝、钛等）。当通入反应气体，如N2或C2H2时，可以生成各种氮化物或碳化物薄膜 (如TiN
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  • 02

    说明书

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