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InGaN/AlInGaN多量子阱太阳能电池结构

InGaN/AlInGaN多量子阱太阳能电池结构

  • 专利类型:发明专利
  • 有效期:不限
  • 发布日期:2021-07-15
  • 技术成熟度:详情咨询
交易价格: ¥面议
  • 法律状态核实
  • 签署交易协议
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  • 交易成功

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  • 技术(专利)类型 发明专利
  • 申请号/专利号 CN201410592387.4 
  • 技术(专利)名称 InGaN/AlInGaN多量子阱太阳能电池结构 
  • 项目单位 中国科学院半导体研究所
  • 发明人 杨静;赵德刚;乐伶聪;李晓静;何晓光 
  • 行业类别 电学
  • 技术成熟度 详情咨询
  • 交易价格 ¥面议
  • 联系人 李志文
  • 发布时间 2021-07-15  
  • 01

    项目简介

    一种InGaN/AlInGaN多量子阱太阳能电池结构,包括:一衬底;在衬底上依序制作有低温成核层、非故意掺杂缓冲层、n型掺杂GaN层、非掺杂InGaN/AlInGaN多量子阱层、P型掺杂氮化镓层,该n型掺杂GaN层上面的一侧有一台面,该台面上制作一N型欧姆电极,一P型欧姆电极,其制作在P型接触层上。本发明可以增加多量子阱太阳能电池吸收层的总电场,提高载流子的分离效率,从而提高太阳能电池的转换效率。
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  • 02

    说明书


    1.一种InGaN/AlInGaN多量子阱太阳能电池结构,包括:一衬底;一低温成核层,其制作在衬底上,该低温成核层为后续生长氮化镓材料提供成核中心;一非故意掺杂氮化镓缓冲层,其制作在低温成核层上;一n型掺杂氮化镓层,其制作在非故意掺杂氮化镓缓冲层上;一非故意掺杂多量子阱层,其制作在n型掺杂氮化镓层上面的一侧,另一侧的n型掺杂氮化镓层上面形成一台面,该非故意掺杂多量子阱层为铟镓氮太阳能电池的吸收层;一p型掺杂氮化镓层,其制作在非故意掺杂多量子阱层上;一N型欧姆电极,其制作在n型掺杂氮化镓层上的台面上;一P型欧姆电极,其制作在p型掺杂氮化镓层上。
    2.如权利要求1所述的InGaN/AlInGaN多量子阱太阳能电池结构,其中所述衬底的材料为蓝宝石、碳化硅或氮化镓。
    3.如权利要求1所述的InGaN/AlInGaN多量子阱太阳能电池结构,其中所述低温成核层的材料为氮化镓或者氮化铝。
    4.如权利要求1所述的InGaN/AlInGaN多量子阱太阳能电池结构,其中n型掺杂氮化镓层中的自由电子浓度为1×1017-1×1019cm-3,所述p型掺杂氮化镓层15的自由空穴浓度为1×1017-1×1019cm-3
    5.如权利要求1所述的InGaN/AlInGaN多量子阱太阳能电池结构,其中非故意掺杂多量子阱层包括10-20个InxGa1-xN/AlyInzGa1-y-zN周期结构,每个周期由InxGa1-xN阱层141和AlyInzGa1-y-zN垒层140构成,其中0<x≤1。
    6.如权利要求5所述的InGaN/AlInGaN多量子阱太阳能电池结构,其中InxGa1-xN阱层的生长温度为700-800℃,厚度为2-5nm。
    7.如权利要求5所述的InGaN/AlInGaN多量子阱太阳能电池结构,其中AlInGaN垒层生长温度为800-900℃,厚度为38nm。
    8.如权利要求7所述的InGaN/AlInGaN多量子阱太阳能电池结构,其中AlyInzGa1-y-zN垒层中的Al组分y,In组分z的确定要保证阱内总电场最大,同时AlyInzGa1-y-zN垒层的禁带宽度大于或等于InGaN阱层的禁带宽度,但小于或等于GaN的禁带宽度,即Eg(GaN)≥Eg(AlInGaN)≥Eg(InGaN)。
    9.如权利要求1所述的InGaN/AlInGaN多量子阱太阳能电池结构,其中所述的N型欧姆电极是点状结构或环形结构。
    10.如权利要求1所述的InGaN/AlInGaN多量子阱太阳能电池结构,其中所述的P型欧姆电极是点状结构或环形结构。
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