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一种多孔分离膜的间歇式等离子体改性方法

一种多孔分离膜的间歇式等离子体改性方法

  • 专利类型:发明专利
  • 有效期:不限
  • 发布日期:2021-07-15
  • 技术成熟度:详情咨询
交易价格: ¥面议
  • 法律状态核实
  • 签署交易协议
  • 代办官方过户
  • 交易成功

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  • 技术(专利)类型 发明专利
  • 申请号/专利号 CN201310188878.8 
  • 技术(专利)名称 一种多孔分离膜的间歇式等离子体改性方法 
  • 项目单位 中国科学院过程工程研究所
  • 发明人 沈飞; 万印华; 康英珂; 闫会; 吴欢欢; 刘丽霞 
  • 行业类别 作业、运输
  • 技术成熟度 详情咨询
  • 交易价格 ¥面议
  • 联系人 李志文
  • 发布时间 2021-07-15  
  • 01

    项目简介

    本发明提供一种制备多孔分离膜的间歇式等离子体改性方法,包括下述步骤,将常规超滤膜或微滤膜固定于装有电极板的室温等离子体腔室中,在一定真空度条件下将气体引入腔室,室温下采用间歇辉光放电方式处理基膜表面,获得最终亲水性或疏水性多孔分离膜产品。与现有连续式和脉冲式室温等离子体改性方法相比,本发明提供的改性方法过程简单、可控性强且无需特殊设备,可显著增强多孔分离膜表面的亲水性或疏水性;所制亲水性多孔分离膜可广泛应用于超滤、微滤、透析等过程,所制疏水性多孔分离膜可广泛应用于膜蒸馏、膜吸收、膜萃取、蒸汽渗透、油性料液澄清等过程,所制多孔分离膜也可以作为基膜用于复合膜的制备。
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  • 02

    说明书


    1.一种多孔分离膜的间歇式等离子体改性方法,其特征在于包括下述步骤,将多孔分离膜固定于装有电极板的室温等离子体腔室中,在一定真空度条件下将气体引入腔室,室温下采用间歇辉光放电方式处理多孔分离膜表面获得最终改性多孔分离膜产品;所述间歇辉光放电方式为:到达指定条件时打开辉光放电开关1s~10min,之后关闭辉光放电开关1s~10min,然后再次开启辉光放电开关1s~10min,如此反复操作,但总处理时间不超过120min;所述指定条件为腔室内真空度能保证室温等离子体辉光放电正常发生。
    2.根据权利要求1所述的改性方法,所述多孔分离膜为表面和断面呈多孔结构的常规超滤膜或微滤膜,其与电极板间的距离为1~10cm。
    3.根据权利要求1所述的改性方法,所述气体为氧气、空气、氮气、水蒸汽、氨气、含羧酸基团的丙烯酸类单体的蒸汽、含酸酐基团的酸酐类单体的蒸汽、含氨基基团的酰胺类单体的蒸汽、含羟基和酯基基团的丙烯酸酯类单体的蒸汽、含吡啶环的乙烯基吡啶类单体的蒸汽或上述气体的复合。
    4.根据权利要求3所述的改性方法,所述含羧酸基团的丙烯酸类单体是丙烯酸或甲基丙烯酸;所述含酸酐基团的酸酐类单体是马来酸酐;所述含酸酐基团的酸酐类单体是丙烯酰胺或N,N-二甲基丙烯酰胺;所述含羟基和酯基基团的丙烯酸酯类单体是丙烯酸羟丙酯或丙烯酸羟乙酯;所述含吡啶环的乙烯基吡啶类单体是3-乙烯基吡啶或4-乙烯基吡啶。
    5.利用权利要求1、2、3、4中任意一种改性方法制备的亲水性多孔分离膜产品,用于超滤、微滤、透析过程或作为制备复合膜的基膜。
    6.根据权利要求1所述的改性方法,所述气体为含氟气体、含氟乙烯类单体的蒸汽、含氟丙烯酸酯类单体的蒸汽、苯乙烯的蒸汽或上述气体的复合。
    7.根据权利要求6所述的改性方法,所述含氟气体是四氟化碳或六氟乙烷或八氟环丁烷;所述含氟乙烯类单体是全氟丁基乙烯或全氟癸基乙烯;所述含氟丙烯酸酯类单体是全氟丁基乙基丙烯酸酯或全氟辛基乙基丙烯酸酯或全氟丁基乙基甲基丙烯酸酯或全氟辛基乙基甲基丙烯酸酯。
    8.利用权利要求1、2、6、7中任意一种改性方法制备的疏水性多孔分离膜产品,用于膜蒸馏、膜吸收、膜萃取、蒸汽渗透、油性料液澄清或作为制备复合膜的基膜。
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专利技术附图

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