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一种用于甩胶机吸附较小样品的真空吸附盘结构(公开号:CN204933902U)

一种用于甩胶机吸附较小样品的真空吸附盘结构(公开号:CN204933902U)

  • 专利类型:实用新型
  • 有效期:不限
  • 发布日期:2020-10-09
  • 技术成熟度:未知
交易价格: ¥面议
  • 法律状态核实
  • 签署交易协议
  • 代办官方过户
  • 交易成功

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  • 申请号 CN201520417700.0 
  • 公开号 CN204933902U 
  • 申请日 2015/06/15 
  • 公开日 2016/01/06 
  • 申请人 兰州大学  
  • 优先权日期  
  • 发明人 李喜玲 郭党委  
  • 主分类号 B05C13/02 
  • 申请人地址 730000 甘肃省兰州市兰州大学齐云楼712 
  • 分类号 B05C13/02;B05C11/08 
  • 专利代理机构  
  • 当前专利状态 实用新型专利授权公告 
  • 代理人  
  • 有效性 授权 
  • 法律状态 实用新型专利授权公告
  •  
  • 01

    项目简介

    本实用新型公开了一种用于甩胶机吸附较小样品的真空吸附盘结构,包括一凸型的真空吸附盘,所述吸附盘的上端面直径为9mm,且吸附盘的上端面中心有一个镂空的真空吸附孔,以及与真空吸附孔相连的四条凹槽,所述吸附盘中间直径为40mm;所述吸附盘最下端设有一个镂空的圆柱体,所述真空吸附孔与真空吸附凹槽相连通,所述镂空圆柱体与真空吸附空相连通;本实用新型避免了甩胶时小片子粘大片子带来的表面不平整,而引起的光刻胶厚度不均匀,进而影响曝光精度;也避免了涂完胶小片不好取的弊端;避免了电机的损坏;为小片涂胶带来了极大的便利。
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  • 02

    说明书

    技术领域本实用新型涉及电子束曝光,尤其涉及一种用于甩胶机吸附较小样品的真空吸附盘。背景技术随着科学研究技术的飞速发展,纳米技术也变得非常普遍,它是顶尖科学研究的一种必备手段。纳米器件、纳米机器人等都是目前的研究热点,那么这些纳米器件的制备自然少不了电子束曝光机。然而电子束曝光机由于本身的平台限制,只能做很小的片子一般尺寸为1cm*1cm或者1cm*2cm。众所周知电子束曝光之前要先对片子进行涂胶,而本实验室的涂胶机能吸附的片子直径需大于4cm,所以小片子无法吸附到涂胶机的平台上。一般常采取将小片子用胶粘到大片子上这种解决方案,然而用胶粘必然会带来表面不平整现象,从而引起光刻胶厚度不均匀,进而影响曝光的结果;且甩完胶之后小片子很难取下来从而影响进一步曝光步骤。给电子束曝光带来了很大的不便实用新型内容本实用新型就是针对上述问题,提出一种用于甩胶机吸附较小样品的真空吸附盘结构,该真空吸附盘能够吸附尺寸较小的片子,可以简单、方便、快捷地对小片子进行涂胶。为解决上述技术问题,本实用新型提供的一种用于甩胶机吸附较小样品的真空吸附盘结构,包括一凸型的真空吸附盘,所述吸附盘的上端面直径为9mm,且吸附盘的上端面中心有一个镂空的真空吸附孔,以及与真空吸附孔相连的四条凹槽,所述吸附盘中间直径为40mm;所述吸附盘最下端设有一个镂空的圆柱体,所述真空吸附孔与真空吸附凹槽相连通,所述镂空圆柱体与真空吸附孔相连通。本实用新型的有益效果是:(一)本实用新型的吸附盘上端面尺寸较小,只有9mm,用于吸附尺寸较小的片子,且上端面上镂空的小孔和凹槽使得样品可以被紧固地吸附到真空吸附盘上,以免涂胶时高速旋转(涂胶时转速一般在每秒3000转)情况下把样品甩出去;(二)方便了电子束曝光片子涂胶,避免了甩胶时小片子粘大片子带来的表面不平整,而引起的光刻胶厚度不均匀,进而影响曝光精度;也避免了涂完胶小片不好取的弊端;(三)本实用新型吸附盘的中间尺寸较大,有40mm,用于遮挡光刻胶,避免滴胶或甩胶时光刻胶进入到真空吸附管道或者电机里,光刻胶一旦进入电机,会造成电机的损坏,更换电机一般费用都比较贵,大约上万元;避免了电机的损坏;为小片涂胶带来了极大的便利。附图说明图1所示的是本实用新型的外观结构图。其中:1、真空吸附盘上端面;2、真空吸附孔;3、真空吸附凹槽;4、真空吸附盘中间端;5、真空吸附盘下端面。具体实施方式下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细地说明。由图1可知,一种用于甩胶机吸附较小样品的真空吸附盘结构,包括真空吸附盘的上端面1,在真空吸附盘上端面1上有镂空的真空吸附孔2,以及真空吸附凹槽3,在真空吸附盘中间端4设有遮挡光刻胶的挡板,真空吸附盘的下端面5为镂空的圆柱体。在本实用新型中,吸附盘上端的真空吸附孔2是与真空吸附凹槽3相连通的。并且吸附盘下端的镂空圆柱体也是与真空吸附孔2相连通的。本实施例是对尺寸较小片子涂胶而言,所述吸附盘的上端面1直径为9mm,厚度为1.5mm;且吸附盘的上端面中心有一个镂空的真空吸附孔2孔径为2mm,孔深3mm;以及与真空吸附孔相连的四条真空吸附凹槽3,四条凹槽是对称分布的,凹槽宽1mm,长2.5mm;镂空的小孔和对称分布的四条凹槽起到紧固样品的作用,使样品被牢固地吸附到真空吸附盘上,且对样品的吸力是对称的,避免了真空吸附盘高速(涂胶时转速一般在每秒3000转)旋转时样品被甩出;真空吸附盘中间端4为遮挡光刻胶的挡板,其直径为40mm,厚度为1.5mm,吸附盘的中间尺寸较大,其目的在于遮挡光刻胶,避免滴胶或甩胶时光刻胶进入到真空吸附管道或者电机里,光刻胶一旦进入电机,会造成电机的损坏,更换电机一般费用都比较贵,大约上万元;真空吸附盘下端面5是一个镂空的圆柱体,其内直径为16mm,外直径为20mm,高度为40mm,吸附盘最下端的设计是与本实验涂胶机相配套的,最下端镂空的圆柱体设计使得吸附盘正好插入到涂胶机的转轴上,这样涂胶机电机转动时就能带动吸附盘及样品一起高速旋转;最下端的镂空圆柱体是与真空吸附孔相连通的。本实用新型方便了电子束曝光片子涂胶,避免了甩胶时小片子粘大片子带来的表面不平整,而引起的光刻胶厚度不均匀,进而影响曝光精度;也避免了涂完胶小片不好取的弊端;避免了电机的损坏;为小片涂胶带来了极大的便利。以上实施例的设计是针对本实验室涂胶机而设计的,实际的使用过程中可以根据仪器设备的不同,对真空吸附盘下端镂空圆柱体做相应的修改,也可根据实验需求对真空附盘上端的尺寸和设计作相应的修改。以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型技术原理的前提下,还可以做出若干改进和变型,这些改进和变型也应视为本实用新型的保护范围。
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专利技术附图

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