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一种磁性Fe3Si颗粒膜的制备方法

一种磁性Fe3Si颗粒膜的制备方法

  • 专利类型:发明专利
  • 有效期:不限
  • 发布日期:2021-04-01
  • 技术成熟度:详情咨询
交易价格: ¥面议
  • 法律状态核实
  • 签署交易协议
  • 代办官方过户
  • 交易成功

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  • 技术(专利)类型 发明专利
  • 申请号/专利号 201510905593.0 
  • 技术(专利)名称 一种磁性Fe3Si颗粒膜的制备方法 
  • 项目单位 贵州大学
  • 发明人 谢泉;谢晶;刘栋;高赐国;张晋敏;肖清泉;陈茜;廖杨芳;范梦慧;黄晋; 
  • 行业类别 人类生活必需品
  • 技术成熟度 详情咨询
  • 交易价格 ¥面议
  • 联系人 吴佳琨
  • 发布时间 2021-04-01  
  • 01

    项目简介

    本发明公开了一种磁性Fe3Si颗粒膜的制备工艺,它包括下述步骤:首先,选取单晶Si片作衬底,清洗吹干;然后在衬底上先溅射沉积一层Si膜,再溅射沉积一层Fe膜,形成Si/Si/Fe结构,使Fe膜和Si膜的膜厚比约为3:1;最后放置于高真空热处理炉中650~750℃退火1~4小时获得Fe‑Si化合物中的金属相Fe3Si磁性颗粒膜。与现有技术相比,本发明采用分层溅射的方法制备Fe3Si磁性颗粒膜,工艺参数易于控制,且复合薄膜均匀,重复性良好,在工艺复杂性,成本和大规模生产上都有着突出优越性,在自旋电子器件领域具有广阔的应用前景。
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  • 02

    说明书


    1.一种磁性Fe3Si颗粒膜的制备方法,其特征在于:它包括下述步骤:第一步骤,选取单晶Si片作衬底,清洗吹干;第二步骤,在衬底上先溅射沉积一层Si膜,再溅射沉积一层Fe膜,形成Si/Si/Fe结构;第三步骤,将上述步骤得到的样品放置于高真空热处理炉中退火,获得Fe-Si化合物中的金属相Fe3Si 磁性颗粒膜;所述第二步骤中的Si/Si/Fe结构,沉积Fe膜厚度与Si膜厚度比为2:1-4:1;在所述第三步骤中,高真空热处理炉真空度达到8.0×10-4Pa后升温至650~750℃,退火时间为1~4小时。
    2.根据权利要求1所述的一种磁性Fe3Si颗粒膜的制备方法,其特征在于:所述第二步骤中溅射真空度小于等于5.0 ×10-5Pa。
    3.根据权利要求1所述的一种磁性Fe3Si颗粒膜的制备方法,其特征在于:所述第二步骤中,室温下溅射沉积条件如下:溅射气压2.0Pa,氩气流量15sccm,溅射功率110W,溅射总膜厚80~400nm。
    4.根据权利要求1所述的一种磁性Fe3Si颗粒膜的制备方法,其特征在于:整个退火过程真空度不低于2.0×10-3Pa。
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